1700V 高性能 GaN HEMT 电力开关器件研究
DOI: http://dx.doi.org/10.12349/msat.v3i3.3145
Article ID: 3145
摘要
GaN材料具有高禁带宽度、高电子迁移率、高热导率、较好的化学稳定性等优势,因此GaN基HEMT电力电子器件在功率开关应用中具备高耐压、低损耗、高开关速度、高温特性好、抗辐照效应好等特点,但是目前面向功率开关应用的GaN器件并未完全发挥出其特性优势,主要体现在目前GaN材料体系的击穿特性已得到充分挖掘,但是基于GaN器件的功率开关应用主要集中在100~650 V的中低压级别,在高压级别的功率开关领域应用较少。针对此问题,论文对面向功率开关应用的新型GaN基HEMT电力电子器件展开深入研究。论文在硅衬底上制备出了横向击穿电压超过1700V,高达1740V的GaN HEMT器件。
关键词
GaN基HEMT电力电子器件;1740V;薄缓冲;降低成本
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PDF参考
Sharbati S, Ebel T, Franke W T. Design of E-mode GaN HEMTs by the polarization super junction (PSJ) technology[J]. Microelectronics Reliability,2020,114(11):113907.
Ma Y, Xiao M, Du Z, et al. Tri-gate GaN junction HEMT[J]. Applied Physics Letters,2020,117(14):143506.
Gupta G, Kanamura M, Swenson B, et al. 1 200V GaN switches on sapphire substrate[C]. 2022 IEEE 34th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD), IEEE,2022:349-352.
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